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銅刻蝕加工是基于光化學蝕刻（濕蝕刻）和干蝕刻技術的金屬加工工藝，主要流程包括：

材料準備：選用高純度銅材，確保表面清潔無雜質。

清洗與預處理：通過化學或機械方式去除銅表面氧化物和油污，提高后續(xù)涂層的附著力。

涂覆光刻膠：在銅表面均勻涂布光敏性抗蝕劑（光刻膠），形成保護膜。

曝光與顯影：使用掩膜版（含設計圖案）覆蓋銅材，經紫外線曝光后，顯影液溶解未曝光區(qū)域的光刻膠，露出需蝕刻的銅表面。

化學蝕刻：將銅材浸入蝕刻液（如氯化鐵溶液或硝酸溶液），溶解裸露的銅區(qū)域，形成凹凸或鏤空結構。

去膜與后處理：去除殘余光刻膠，并進行清洗、拋光或表面鍍層處理，以滿足最終產品需求。

應用領域

銅刻蝕技術憑借高精度、低應力、適用于薄材加工等特點，廣泛應用于以下領域：

電子與半導體：

用于制造印刷電路板（PCB）的導電線路、微電子元件的連接器等，因其導電性能優(yōu)越。

在半導體封裝中加工微型引線框架和散熱器件。

精密儀器與航空航天：

制作輕量化儀器鑲板、散熱片及傳感器部件，滿足高強度、高耐蝕性要求。

裝飾與工藝制品：

加工金屬銘牌、首飾、浮雕藝術品等，通過鏤空或立體圖案增強裝飾性。

工業(yè)模具與工具：

制造復雜結構的模具（如注塑模具），或定制化工裝夾具中的銅制零部件。

銅刻蝕加工廠的特點

專業(yè)銅刻蝕加工廠通常具備以下能力：

精密加工：可處理厚度0.01mm至2mm的銅材，精度達±0.01mm。

工藝多樣性：支持線寬低至數(shù)十微米的精細蝕刻，以及大面積蝕刻。

環(huán)保措施：配備廢液回收系統(tǒng)，減少蝕刻廢液對環(huán)境的污染。

如需選擇加工廠，建議關注其設備先進性（如自動化蝕刻線）、行業(yè)認證（如ISO質量管理體系）及典型應用案例的匹配度。